石墨管內(nèi)的樣品被完全霧化，在光路中停留時間長（與火焰法相比）。 因此，該方法的靈敏度大大提高，檢測限降低到ppb級。 主要原因是石墨模具廠在測量時，溶劑已不存在，也沒有火焰霧化系統(tǒng)，樣品被氣體稀釋。 盡管基態(tài)自由原子仍然受到干擾，但它們表現(xiàn)出與火焰原子化系統(tǒng)不同的特性。 通過正確選擇分析條件和化學基體改性劑，可以更輕松地控制石墨爐原子化過程。 由于使用石墨爐技術直接分析多種基質(zhì)類型的樣品，可以減少樣品制備誤差。