真空燒結(jié)爐采用中頻感應(yīng)加熱原理。 在真空抽真空后充氫保護(hù)下，線圈內(nèi)的鎢坩堝內(nèi)產(chǎn)生高溫，通過熱輻射傳遞給工件。 適用于科研和軍事單位鎢、鉬及其合金等難熔合金粉末的成型和燒結(jié)。 又分為臥式真空燒結(jié)爐和立式真空燒結(jié)爐。 電爐安裝場(chǎng)所應(yīng)符合真空衛(wèi)生要求，周圍空氣清潔干燥，通風(fēng)條件良好，工作場(chǎng)所不易揚(yáng)塵。

?   真空燒結(jié)爐主要用于半導(dǎo)體元件和功率整流器件的燒結(jié)工藝，可用于真空燒結(jié)、氣體保護(hù)燒結(jié)和常規(guī)燒結(jié)。 它是半導(dǎo)體設(shè)備家族中的一種新型工藝設(shè)備。 設(shè)計(jì)理念新穎，操作方便，結(jié)構(gòu)緊湊，可在一臺(tái)設(shè)備上完成多項(xiàng)工藝流程。 也可用于其他領(lǐng)域的真空熱處理、真空釬焊等工藝。

真空燒結(jié)爐有兩種類型：

???一種分為普通燒結(jié)爐（1300℃及以下）、中溫?zé)Y(jié)爐（1300℃～1600℃）和高溫?zé)Y(jié)爐（1600℃～2400℃）。
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另一種按真空度來分，可分為低真空、高真空和超高真空燒結(jié)爐。
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用戶在選擇真空燒結(jié)爐時(shí)，應(yīng)根據(jù)具體的加工材料選擇合適的型號(hào)，并在有效溫度范圍內(nèi)使用，以使其發(fā)揮更好的作用。    

真空燒結(jié)爐主要用于特種陶瓷（碳化硅（SIC）、碳化硼、氮化硅和與碳化硅結(jié)合的氮化硅）、高熔點(diǎn)金屬、硬質(zhì)合金等粉末材料的高溫?zé)Y(jié)。 更適用于碳化硅制品的再結(jié)晶和燒結(jié)工藝。 還可用于一些難熔金屬的退火、光亮和脫氣。
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